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太原石英坩堝用途？石英坩堝工藝流程
作者： 發(fā)布時間：2020-04-09 16:39:11點擊：50399
目前石英坩堝生產涂層技術已被大多數廠家使用就是在普通石英砂溶制的坩堝表面涂上一層高純度石英砂使其形成致密層，其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反應提高成晶率。
石英坩堝工藝流程
尤尼明高純石英砂→高純石墨模具→真空裝料成型→真空電弧熔制→自然冷卻脫模→石英坩堝初步檢測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石英坩堝二次檢測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋、自動烘干→石英坩堝三次檢驗→真空包裝→成品入庫。
石英坩堝用途
1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎材料。
當今，世界半導體工業(yè)發(fā)達已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質量穩(wěn)定等優(yōu)點。
2、不能和HF接觸，高溫時，較容易易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。
3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207（先在212度烘干）作熔劑處理樣品。
4、石英質脆，易破，使用時要注意。
5、除HF外，普通稀無機酸可用作清洗液。
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